【XD01】｜【単位操作・装置一般】 ｜充填層（固定層），充填塔，流動層，移動層，多孔板塔，ぬれ
｜ ｜壁塔，スプレー塔，気泡塔，段塔，スクラッパ，充填物，多孔
｜ ｜板，整流板など
｜ ｜
XD01010Y｜装置内の流れ ｜流体の流れの一般的なものはBC「流体力学」をも見よ
｜ ｜
XD01020J｜装置内の物質移動及び一般 ｜物質移動一般，伝熱を伴う物質移動など。伝熱を伴う物質移動
｜ ｜はPA02「伝熱」をも見よ
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XD01030U｜装置内の伝熱 ｜化学工学熱力学を含む。一般的なものはPA02「伝熱」をも見よ
｜ ｜
【XD02】｜【流体処理・装置】 ｜液体と気体共通。用廃水処理についてはSC02「上水道工学，用
｜ ｜水処理」，SC03「下水道工学，廃水処理」，をも，排ガスの処
｜ ｜理についてはSC04「排ガス処理技術」をも見よ
｜ ｜
XD02010F｜蒸留，蒸発 ｜蒸発及び蒸発装置，凝縮及び凝縮装置，蒸留，精留，精留塔，
｜ ｜真空蒸留，減圧蒸留，共沸蒸留，水蒸気蒸留，加圧蒸留，分子
｜ ｜蒸留など。相変化を伴う伝熱はPA02040V「相変化を伴う熱伝達
｜ ｜」をも見よ
｜ ｜
XD02020Q｜気体の乾燥（減湿）・増湿 ｜圧縮，吸着，吸収，混合，冷却，加熱などによる気体の減湿・
｜ ｜増湿など。空調はPC02「空気調和装置」をも見よ
｜ ｜
XD02030B｜抽出 ｜抽出一般，液液抽出，固液抽出，超臨界ガス抽出など
｜ ｜
XD02040M｜撹はん，混合 ｜異相系の撹はん，ねっかなど
｜ ｜
XD02050X｜ろ過，遠心分離 ｜ろ過・遠心分離一般，ろ過装置の構造と設計，遠心ろ過及び脱
｜ ｜水など
｜ ｜
XD02060I｜吸着，イオン交換 ｜撹はん系，固定層，移動層，流動層，吸着・イオン交換装置及
｜ ｜び装置の設計など
｜ ｜
XD02070T｜晶析 ｜晶析一般，晶析理論，晶析装置及び装置の設計法など
｜ ｜
XD02080E｜沈降 ｜沈降一般，分級，沈殿濃縮，遠心沈降など
｜ ｜
XD02090P｜吸収 ｜ガスの溶解度，物理吸収，化学吸収，吸収速度と装置の大きさ
｜ ｜，非等温吸収，多成分系ガスの吸収，化学反応を伴う吸収装置
｜ ｜の特性と設計法など。化学吸収はXE01「反応操作・装置」をも
｜ ｜見よ
｜ ｜
XD02100D｜集塵 ｜集塵原理と性能，慣性・遠心フィルタ・電気・洗浄集塵，その
｜ ｜他の集塵形成，集塵装置計画など
｜ ｜
XD02110O｜真空，高圧操作 ｜気体の液化はPD05000H「低温工学」をも，真空ポンプはQD0403
｜ ｜0Iをも見よ
｜ ｜
XD02120Z｜膜分離 ｜逆浸透，超ろ過，限外ろ過，透析，精密ろ過，ガス分離，パー
｜ ｜ベーパレーション法など透過膜による分離を含む。イオン交換
｜ ｜膜による分離はXD02060I「吸着，イオン交換」をも見よ
｜ ｜
XD02130K｜その他の流体処理 ｜
｜ ｜
【XD03】｜【固体処理・装置】 ｜
｜ ｜
XD03010M｜粉体工学 ｜粉体工学一般，粉体の物性，粉体の空気輸送など
｜ ｜
(XD0302)｜(固体の製造・処理) ｜
｜ ｜
XD03021O｜固体の製造・処理一般 ｜粉砕と破砕，選別，ふるい，分離，混合，形成プレス，造粒な
｜ ｜ど
｜ ｜
XD03022F｜固体の乾燥 ｜乾燥一般，空気，気体による乾燥，真空乾燥，放射による乾燥
｜ ｜，高周波乾燥，流動乾燥，吸着剤による乾燥など
｜ ｜
(XD0303)｜(固体の処理装置) ｜
｜ ｜
XD03031Z｜固体の処理装置一般 ｜粉砕機，破砕機，選別機，分離機，混合装置，造粒機，遠心分
｜ ｜離機，集塵装置，沈降機，清澄機，サイクロンなど。一般的な
｜ ｜ものはQE05030S「その他の産業機械・機器」をも見よ
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XD03032Q｜固体の乾燥機 ｜
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